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Topological Analysis of Electron Density on the Halogen-bonding Interactions Between C(4)H(6)O, C(4)
  • ISSN号：0567-7351
  • 期刊名称：Acta Chimica Sinica
  • 时间：0
  • 页码：1874-1880
  • 语言：英文
  • 相关项目：电子密度拓扑分析理论方法研究弱键结构
作者： Zeng Yanli|Ji Liting|Meng Lingpeng|Zheng Shijun|
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期刊信息
  • 《化学学报》
  • 北大核心期刊（2014版）
  • 主管单位:中国科学院
  • 主办单位:中国化学会 中国科学院上海有机化学研究所
  • 主编：周其林
  • 地址：上海市零陵路345号
  • 邮编：200032
  • 邮箱：hxxb@sioc.ac.cn
  • 电话：021-54925085
  • 国际标准刊号：ISSN：0567-7351
  • 国内统一刊号：ISSN：31-1320/O6
  • 邮发代号:4-209
  • 获奖情况:
  • 首届国家期刊奖,第二届国家期刊奖提名奖,中国期刊方阵“双高期刊”
  • 国内外数据库收录:
  • 俄罗斯文摘杂志,美国化学文摘（网络版）,荷兰文摘与引文数据库,美国科学引文索引（扩展库）,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊（2004版）,中国北大核心期刊（2008版）,中国北大核心期刊（2011版）,中国北大核心期刊（2014版）,英国英国皇家化学学会文摘,中国北大核心期刊（2000版）
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