位置:成果数据库 > 期刊 > 期刊详情页
Ho3+掺杂Sc2SiO5激光晶体生长与光谱性能研究
  • ISSN号:1000-985X
  • 期刊名称:《人工晶体学报》
  • 时间:0
  • 分类:O78[理学—晶体学]
  • 作者机构:[1]上海大学材料科学与工程学院电子信息材料系,上海200444, [2]中国科学院上海硅酸盐研究所,上海201899, [3]中国科学院上海光学精密机械研究所,上海201800
  • 相关基金:上海市自然科学基金(13ZR1446100,12JC1409100); 国家自然科学基金(91222112,61205171,51272264)
中文摘要:

采用提拉法分别生长了具有高光学质量的0.5at%和1.0at%的Ho∶Sc2SiO5(Ho∶SSO)激光晶体。研究表明晶体空间群为C2/c,晶胞参数为a=0.99723 nm,b=0.64261 nm,c=1.16843 nm,β=103.9°。Ho3+在SSO基质中的分凝系数为0.82。Ho∶SSO晶体在2085 nm处发射截面为1.12×10^-20cm2,发射光谱呈现一个1850~2150 nm的宽发射带。当粒子数反转比率β=0.25时,增益截面σg即开始出现正增益。综合评估了晶体的激光性能,表明Ho∶SSO晶体是一种有潜力的2μm波段激光介质。

英文摘要:

Sc2SiO5 : 0.5at% Ho (Ho: SSO) and Sc2SiO5 : 1.0at% Ho bulk crystals were obtained by Czochralski method. The results indicate that the space group of Ho: SSO crystal is C2/c. The cell parameters were calculated to be a=0.99723 nm,b=0.64261 nm,c=1.16843 nm,β=103.9°. The segregation coefficient of Ho3 + in SSO host were calculated to be 0.82. The emission cross section in 2085 nm is 1.12 ×10^-20cm2. The broad emission spectrum is extended from 1850 nm to 2150 nm. When the inversion ratio equals to 0.25, the gain cross-section appeared to be positive. Laser properties were evaluated and all these data indicated that Ho: SSO is promising for 2 μm laser operation.

同期刊论文项目
同项目期刊论文
期刊信息
  • 《人工晶体学报》
  • 中国科技核心期刊
  • 主管单位:中国建材工业协会
  • 主办单位:中国硅酸盐学会 晶体生长与材料专业委员会 中材人工晶体研究院
  • 主编:余明清
  • 地址:北京市733信箱
  • 邮编:100018
  • 邮箱:
  • 电话:010-65492963 65492968 65493320
  • 国际标准刊号:ISSN:1000-985X
  • 国内统一刊号:ISSN:11-2637/O7
  • 邮发代号:
  • 获奖情况:
  • 1997年获国家科技优秀期刊,获部级优秀科技期刊奖,中国期刊方阵“双效”期刊
  • 国内外数据库收录:
  • 美国化学文摘(网络版),荷兰文摘与引文数据库,美国工程索引,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊(2004版),中国北大核心期刊(2008版),中国北大核心期刊(2011版),中国北大核心期刊(2014版),中国北大核心期刊(2000版)
  • 被引量:9943