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ZnO薄膜p型掺杂的研究进展
  • ISSN号:1005-023X
  • 期刊名称:《材料导报》
  • 时间:0
  • 分类:TN304.21[电子电信—物理电子学]
  • 作者机构:[1]北京工业大学材料科学与工程学院,北京100022
  • 相关基金:国家自然科学基金(20021003);国家自然科学基金(60576012);科技部重大基础前期专项(2002CCC01300);北京市优秀人才工程(20041D0501513)
中文摘要:

ZnO薄膜作为一种多功能半导体材料,近年来一直受到广泛关注。然而,如何制备高质量的p型ZnO薄膜是实现其实用化的关键。概括了p型掺杂困难的原因,并指出Ⅲ-Ⅴ族元素共掺杂可能是p型掺杂的最好方法。简单回顾了ZnO薄膜p型掺杂的研究现状,并对今后的发展趋势进行了展望。

英文摘要:

As a multifunctional semiconductor material, ZnO film has attracted much attention recently. However, how to prepare high-quality p type ZnO film is the key step for its applications. The reason for the difficulties of p-type doping is summarized and the co-doping method is mentioned as the possible best way of p-type doping. A brief review of the recent advances in p-type ZnO thin film is provided in the paper, and some problems to be solved by further research are also proposed.

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期刊信息
  • 《材料导报:纳米与新材料专辑》
  • 主管单位:重庆西南信息有限公司(原科技部西南信息中心)
  • 主办单位:重庆西南信息有限公司(原科技部西南信息中心)
  • 主编:
  • 地址:重庆市渝北区洪湖西路18号
  • 邮编:401121
  • 邮箱:matreved@163.com
  • 电话:023-67398525
  • 国际标准刊号:ISSN:1005-023X
  • 国内统一刊号:ISSN:50-1078/TB
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  • 被引量:3397