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Structure and Tribology Property of Carbon Nitride Films Deposited by MW-ECR Plasma Enhanced Unbalanced Magnetron Sputtering
  • ISSN号：1009-0630
  • 期刊名称：《等离子体科学与技术：英文版》
  • 时间：0
  • 分类：O484[理学—固体物理;理学—物理]
  • 作者机构：[1]State Key Laboratory of Materials Modification by Laser, Ion and Electron Beams, Dalian University of Technology, Dalian 116024, China, [2]International Centre for Materials Physics, Chinese Academy of Sciences, Shenyang 110016, China
  • 相关基金：supported by National Natural Science Foundation of China （No. 50390060）
作者： 高鹏[1], 徐军[1], 朴勇[1], 丁万昱[1], 邓新绿[1], 董闯[1,2]
关键词： 不均衡磁控管溅射法, 碳氮化物薄膜, 结构, 摩擦性能, 等离子体, carbon nitride, tribological property, unbalanced magnetron sputtering
中文摘要：

E-mail address of GAO Peng gaopeng3000@yahoo.com.cn

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期刊信息
  • 《等离子体科学与技术：英文版》
  • 主管单位:中国科学院 中国科协
  • 主办单位:中国科学院等离子体物理研究所 中国力学学会
  • 主编：万元熙、谢纪康
  • 地址：合肥市1126信箱
  • 邮编：230031
  • 邮箱：pst@ipp.ac.cn
  • 电话：0551-5591617 5591388
  • 国际标准刊号：ISSN：1009-0630
  • 国内统一刊号：ISSN：34-1187/TL
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