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磁流变抛光工艺参数的正交实验分析
  • ISSN号:1002-1582
  • 期刊名称:《光学技术》
  • 时间:0
  • 分类:TH164[机械工程—机械制造及自动化]
  • 作者机构:[1]国防科技大学机电工程与自动化学院,长沙410073
  • 相关基金:国家自然科学基金资助项目(50375156)
中文摘要:

对利用自行配制的水基磁流变抛光液和磁流变抛光实验样机进行了以抛光去除效率和表面粗糙度为考核指标的工艺实验。应用正交试验方法分析了磁流变抛光中主要工艺参数(磁场强度、抛光粉浓度、抛光盘的转速、抛光盘与工件间的间隙)对抛光去除效率和表面粗糙度的影响规律,并结合磁流变抛光机理对其进行了分析。根据实验结果对工艺参数进行了优化。

英文摘要:

The orthogonal experiment of MRF optic work pieces is preceded on the MRF prototype machine tool using MR fluid. The influence to the removal efficiency and surface roughness by the processing parameters such as magnetic field intersity, the density of polishing abrasive, gap length between the work piece and the polishing wheel and polishing wheel rotation speed is discussed and analyzed according to MRF mechanism and optical glass removal mechanism. Synthesized with the fore parameters, the optimized technological parameter for MRF optical glass has been got. This research establishes foundation for MRF technology in optical machining field.

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期刊信息
  • 《光学技术》
  • 中国科技核心期刊
  • 主管单位:国防科工委
  • 主办单位:中国兵工学会 北京理工大学 中国北方光电工业总公司
  • 主编:夏阳
  • 地址:北京海淀中关村南大街5号
  • 邮编:100081
  • 邮箱:gxjs@bit.edu.cn
  • 电话:010-68913628 68948720
  • 国际标准刊号:ISSN:1002-1582
  • 国内统一刊号:ISSN:11-1879/O4
  • 邮发代号:2-830
  • 获奖情况:
  • 中国兵器工业总公司优秀期刊一等奖,首届国防科工委优秀期刊二等奖,美国工程索引(EI)对本刊论文的收录率为87%
  • 国内外数据库收录:
  • 美国化学文摘(网络版),荷兰文摘与引文数据库,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊(2004版),中国北大核心期刊(2008版),中国北大核心期刊(2011版),中国北大核心期刊(2014版)
  • 被引量:12855