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电阻率对硅衬底微波传输特性影响分析
  • ISSN号:1004-373X
  • 期刊名称:现代电子技术
  • 时间:2014.6.15
  • 页码:49-51+55
  • 分类:TN710.34[电子电信—电路与系统]
  • 作者机构:[1]中国电子科技集团公司第三十八研究所,安徽合肥230088
  • 相关基金:国家自然科学基金资助项目(51205375)
  • 相关项目:SOI埋氧层应力对高灵敏微悬臂梁制作的影响机理研究
作者: 刘勇|
中文摘要:

针对传统硅衬底介质损耗大的现象,通过软件电磁仿真手段分析不同电阻率硅衬底上微带线的传输特性,系统研究电阻率变化对硅衬底微波传输特性的影响,并与基于MEMS三维加工的低阻硅衬底进行比较。在30 GHz频率范围内,当硅衬底电阻率从10Ω·cm提升至4000Ω·cm时,微带线插入损耗从20 dB/cm降低至0.6 dB/cm。电阻率大于100Ω·cm的高阻硅衬底微波传输特性优于带MEMS空腔的10Ω·cm低阻硅衬底。结果表明提升电阻率可有效降低硅衬底微波传输损耗,结合低成本成熟工艺等优点,高阻硅衬底具有广阔的微波集成应用前景。

英文摘要:

In consideration of the phenomenon that the dielectric loss of common Si-substrate is high,the microwave trans-mission characteristics of microstrip line on Si-substrate with different resistivity is investigated based on EM simulation software. The effect of resistivity on microwave transmission property of Si-substrate is systematically researched. The Si-substrate is com-pared with the low resistivity Si-substrate fabricated by MEMS 3D machining method. In 30 GHz period,the insertion loss of mi-crostrip line is reduced from 20 dB/cm to 0.6 dB/cm while the resistivity of the Si-substrate is raised from 10 Ω/cm to 4000 Ω/cm The microwave transmission characteristics of the Si-substrate with resistivity higher than 100Ω·cm is better than that of the 10 Ω·cm Si-substrate with a MEMS cavity. The results show that microwave transmission loss of the Si-substrate can be effective-ly reduced by raising resistivity. With advantages including low cost and mature technology,high resistivity Si-substrate will have a wide prospect in microwave integration and application.

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期刊信息
  • 《现代电子技术》
  • 北大核心期刊(2014版)
  • 主管单位:陕西省信息产业厅
  • 主办单位:陕西电子杂志社 陕西省电子技术研究所
  • 主编:张郁(执行)
  • 地址:西安市金花北路176号陕西省电子技术研究所科研生产大楼六层
  • 邮编:710032
  • 邮箱:met@xddz.com.cn
  • 电话:029-93228979
  • 国际标准刊号:ISSN:1004-373X
  • 国内统一刊号:ISSN:61-1224/TN
  • 邮发代号:52-126
  • 获奖情况:
  • 中国科技核心期刊
  • 国内外数据库收录:
  • 波兰哥白尼索引,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊(2014版)
  • 被引量:37245