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以硅材料为载体的表面分子印迹技术研究新进展
  • ISSN号:1005-023X
  • 期刊名称:《材料导报》
  • 时间:0
  • 分类:TB321[一般工业技术—材料科学与工程] O658.2[理学—分析化学;理学—化学]
  • 作者机构:[1]贵州师范学院化学与生命科学学院,贵阳550018
  • 相关基金:贵州省科学技术基金(J20112078);贵州省教育厅自然科学基釜(2010054);贵州省特色重点学科基金(2012442)
中文摘要:

硅材料具有良好的力学稳定性和热稳定性,作为表面分子印迹聚合物的载体具有较大的优势。以硅材料为栽体的表面分子印迹聚合物(SSMIP)是目前分子印迹技术领域的研究重点之一。着重对最近几年SSMIP的制备方法进行总结与评述,主要包括接枝共聚法、活性可控自由基聚合法、牺牲硅胶骨架法和溶胶-凝胶法等,并对SSMIP的应用和未来发展进行了展望。

英文摘要:

Silica material is showing significant advantages in design of surface molecularly imprinted polymer due to its high mechanical and thermal stability. Silicon surface molecularly imprinted polymer (SSMIP) is one of the most active topics in the field of molecular imprinting technique. The latest achievements in the preparation of SSMIP, including grafting copolymerization process, controlled/living radical polymerization, sacrificial template method, and sol-gel process, are reviewed and discussed. The application and the prospect of SSMIP are also proposed.

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期刊信息
  • 《材料导报:纳米与新材料专辑》
  • 主管单位:重庆西南信息有限公司(原科技部西南信息中心)
  • 主办单位:重庆西南信息有限公司(原科技部西南信息中心)
  • 主编:
  • 地址:重庆市渝北区洪湖西路18号
  • 邮编:401121
  • 邮箱:matreved@163.com
  • 电话:023-67398525
  • 国际标准刊号:ISSN:1005-023X
  • 国内统一刊号:ISSN:50-1078/TB
  • 邮发代号:
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  • 国内外数据库收录:
  • 被引量:3397