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不同周期膜系结构对1064nm高反膜的激光损伤阈值的影响
  • ISSN号:1672-7126
  • 期刊名称:《真空科学与技术学报》
  • 时间:0
  • 分类:TN929.11[电子电信—通信与信息系统;电子电信—信息与通信工程]
  • 作者机构:[1]电子工程与光电技术学院南京理工大学,南京210094, [2]陕西省光电测试与仪器技术重点实验室西安工业大学,西安710032
  • 相关基金:国家自然科学基金项目(61378050); 国际科技合作项目(2013DFR70620)资助
中文摘要:

基频高反膜元件由于较易受到激光损伤而严重影响激光系统正常工作,因此研究高反膜的激光损伤原因及损伤机理成为一个急需解决的问题。本文搭建激光损伤阈值测试平台,对不同周期膜系结构的1064 nm激光高反膜的激光损伤阈值的影响进行了研究。研究结果表明,相比较于G|(LH)^9L|A膜系,G|(HL)^9L|A这种周期结构的薄膜的激光损伤阈值较高,且损伤形貌以熔融型为主。

英文摘要:

The damages of high reflective multilayered thin films(TiO_2/SiO_2) grown on Bk7 and Si substrates,induced by laser irradiation,were empirically approximated,mathematically modeled,theoretically analyzed in thermodynamics/electrodynamics,and experimentally evaluated with the lab-built platform.The influence of the multilayers ' properties,including but not limited to the multilayer-sequence,surface roughness,and reflective index of materials,on the laser-induced damage threshold(LIDT) at 1064 nm was investigated.The calculated and measured results show that the multilayer sequence significantly affects the LIDT of the multilayer.To be specific,the G|(HL)~9L|A multilayer,where G and A stand for substrate and air;H and L denote the quarter-wavelength layers with high(TiO_2) and low(SiO_2) reflective indexes,respectively,has higher ODT than G |(LH)~9 L | A;and the melting damage dominated.Possible mechanisms responsible for the observation were also tentatively discussed in a thought provoking way.

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期刊信息
  • 《真空科学与技术学报》
  • 中国科技核心期刊
  • 主管单位:中国科学技术协会
  • 主办单位:中国真空学会
  • 主编:李德杰
  • 地址:北京朝阳区建国路93号万达广场9号楼614室
  • 邮编:100022
  • 邮箱:cvs@chinesevacuum.com
  • 电话:010-58206280
  • 国际标准刊号:ISSN:1672-7126
  • 国内统一刊号:ISSN:11-5177/TB
  • 邮发代号:
  • 获奖情况:
  • 国内外数据库收录:
  • 美国化学文摘(网络版),荷兰文摘与引文数据库,美国工程索引,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊(2004版),中国北大核心期刊(2008版),中国北大核心期刊(2011版),中国北大核心期刊(2014版),英国英国皇家化学学会文摘,中国北大核心期刊(2000版)
  • 被引量:4421