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Morphology in-Design Deposition of HfO2 Thin Films
  • ISSN号：0002-7820
  • 期刊名称：Journal of the American Ceramic Society
  • 时间：0
  • 页码：3458-3460
  • 语言：英文
  • 相关项目：强磁场对金属氧化物纳米结构的稳定性和性能的影响
作者： Jie, Ni|Zhengjun, Zhang|Yu, Zhu|Qin, Zhou|
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