位置:成果数据库 > 期刊 > 期刊详情页
部分耗尽SOI MOSFETs中翘曲效应的温度模型
  • ISSN号:1001-9731
  • 期刊名称:《功能材料》
  • 时间:0
  • 分类:TN386[电子电信—物理电子学]
  • 作者机构:[1]湘潭大学教育部低维材料及应用技术重点实验室,湖南湘潭411105
  • 相关基金:Project supported by Key Project of National Natural Science Foundation of China(50531060); National Science Found for Distinguished Young Scholars of China(10525211); National Natural Science Foundation of China(10572124; 10472099); Key Project of Scientific and Technological Department of Hunan Province (05FJ2005), and the Open Project Program of Low Dimensional Materials & Application Technology (Xiangtan University), Ministry of Education, China (KF0602).
中文摘要:

提出了一种部分耗尽SOI MOSFETs器件翘曲效应的一个温度模型。详细地分析了漏电流在不同温度下的导通机制。总的电流由两部分组成:一部分是上MOS的电流,另一部分是由下部的寄生三极管电流。漏电流的突然增加来源于浮体区电势的增加。在本模型还分析了浮体电势、阈值电压与温度的变化关系。

英文摘要:

A temperature-dependent model for kink effect of partially depleted silicon-on-insulator metal-oxide-semiconductor field-effect transistors is developed The current conduction mechanism with temperature is explored in detail. The total drain current consists of the top MOS current and the bottom parasitic bipolar junction transistor current. The sudden increase of drain current originates from the increasing potential of floating body region. In this model, the drain current, floating body potential and threshold voltage are also investigated under different temperatures.

同期刊论文项目
期刊论文 82 会议论文 5 专利 7
期刊论文 58 会议论文 1 获奖 2 专利 5 著作 2
同项目期刊论文
期刊信息
  • 《功能材料》
  • 北大核心期刊(2011版)
  • 主管单位:重庆材料研究院
  • 主办单位:重庆材料研究院
  • 主编:黄伯云
  • 地址:重庆北碚区蔡家工业园嘉德大道8号
  • 邮编:400707
  • 邮箱:gnclwb@126.com
  • 电话:023-68264739
  • 国际标准刊号:ISSN:1001-9731
  • 国内统一刊号:ISSN:50-1099/TH
  • 邮发代号:78-6
  • 获奖情况:
  • 2008、2011年连续获中国精品科技期刊,2010获重庆市双十佳期刊
  • 国内外数据库收录:
  • 美国化学文摘(网络版),荷兰文摘与引文数据库,美国工程索引,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊(2004版),中国北大核心期刊(2008版),中国北大核心期刊(2011版),中国北大核心期刊(2014版),英国英国皇家化学学会文摘,中国北大核心期刊(2000版)
  • 被引量:30166