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Ta2O5薄膜制备的研究现状及进展
  • ISSN号:1005-023X
  • 期刊名称:《材料导报》
  • 时间:0
  • 分类:O484.1[理学—固体物理;理学—物理] TN104.3[电子电信—物理电子学]
  • 作者机构:[1]中南大学冶金科学与工程学院,长沙410083
  • 相关基金:国家自然科学基金(50804056);中国博士后基金项目(20080431028)
中文摘要:

Ta2O5薄膜具有很好的电学性能和光学性能,制备方法种类繁多,如溶胶一凝胶法(Sol—gel)、化学气相沉积法、电子柬蒸发技术、溅射法、Ta层阳极氧化或热氧化法、离子辅助沉积法(IBAD)、原子层沉积法(ALD)等。评述了现有各种制备方法的优缺点,综述了Ta2O5薄膜各种方法制备的条件、薄膜的功能性质等,并评析了金属有机化合物为前驱体制备性能优良的Ta2O5薄膜的前景。

英文摘要:

Ta2O5 films possess good electrics properties and optics properties. Currently, the preparation methods are classified as sol-gel,CVD, ALD and so on, the merits and demerits of those methods are discussed, the controlling conditions of these fabrication methods and the as-synthesized film's properties are summarized. Finally, the prospect of using the metal-organic compound as precursor to prepare excellent performance Ta20s films is also introduced.

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期刊信息
  • 《材料导报:纳米与新材料专辑》
  • 主管单位:重庆西南信息有限公司(原科技部西南信息中心)
  • 主办单位:重庆西南信息有限公司(原科技部西南信息中心)
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  • 国际标准刊号:ISSN:1005-023X
  • 国内统一刊号:ISSN:50-1078/TB
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