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852nm半导体激光器InGaAlAs、InGaAsP、InGaAs和GaAs量子阱的温度稳定性
  • ISSN号:1000-7032
  • 期刊名称:发光学报
  • 时间:2012.6.6
  • 页码:640-646
  • 分类:TN248.4[电子电信—物理电子学]
  • 作者机构:[1]发光学及应用国家重点实验室中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,吉林长春130033, [2]中国科学院研究生院,北京100039
  • 相关基金:国家自然科学基金(10974012,11074247,61106047,61176045,61106068,51172225,61006054);国家自然科学基金重点项目(90923037)资助项目
  • 相关项目:垂直腔面发射激光器及其面阵的无损检测技术研究
中文摘要:

为了提高852nm半导体激光器的温度稳定性,理论计算了InGaAlAs、InGaAsP、InGaAs和GaAs量子阱的增益,模拟对比并研究了不同量子阱的增益峰值和峰值波长随温度的漂移。结果显示,采用In0.15,Ga0.74Al0.11As作为852nm半导体激光器的量子阱可以使器件同时具有较高的增益峰值和良好的温度稳定性。使用金属有机化学气相沉积(MOCVD)外延生长了压应变In0.15,Ga。0.74Al0.11As单量子阱852nm半导体激光器,实验测得波长随温度漂移的数值为0.256nm/K,实验测试结果验证了理论计算结果。

英文摘要:

In order to enhance the temperature stability of 852 nm laser diode, the gain of InGaAlAs, InGaAsP, InGaAs and GaAs quantum-wells were calculated by a comprehensive model theory, and the peak gain and wavelength versus operation temperature for the six different quantumwells were compared and discussed. The results indicate that In0.15Ga0.TaAl0. 11 As quantum-well is the most appropriate candidate for 852 nm laser diode when the higher gain and better temperature stability demanded simultaneously. Compressive-strained Ino. 15 Gao.T4 Alo.ll As single quantum-well 852 nm laser diode was grown by metal-organic chemical vapor deposition (MOCVI)). The wavelength shift with temperature for 852 nm laser diode is 0. 256 nm/K, the experimental results are in good agreement with theoretical calculation results.

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期刊信息
  • 《发光学报》
  • 中国科技核心期刊
  • 主管单位:中国科学院
  • 主办单位:中国物理学会发光分会 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
  • 主编:申德振
  • 地址:长春市东南湖大路3888号
  • 邮编:130033
  • 邮箱:fgxbt@126.com
  • 电话:0431-86176862
  • 国际标准刊号:ISSN:1000-7032
  • 国内统一刊号:ISSN:22-1116/O4
  • 邮发代号:12-312
  • 获奖情况:
  • 物理学类核心期刊,2000年获中国科学院优秀期刊二等奖,中国期刊方阵“双效”期刊
  • 国内外数据库收录:
  • 美国化学文摘(网络版),荷兰文摘与引文数据库,美国工程索引,美国剑桥科学文摘,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊(2004版),中国北大核心期刊(2008版),中国北大核心期刊(2011版),中国北大核心期刊(2014版),中国北大核心期刊(2000版)
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