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Influences of periodic Si delta-doping on the characteristics of n-GaN grown on Si (111) substrate
  • ISSN号:0022-0248
  • 期刊名称:Journal of Crystal Growth
  • 时间:2014.2.1
  • 页码:106-110
  • 相关项目:常关型宽禁带氮化镓MOS场效应晶体管的研究
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