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Deposition of photocatalytic TiO2 and N-doped TiO2 films by arc ion plating
  • ISSN号：1003-6326
  • 期刊名称：《中国有色金属学报：英文版》
  • 时间：0
  • 分类：TQ153[化学工程—电化学工业]
  • 作者机构：[1]Jiangxi Key Laboratory of Surface Engineering, Jiangxi Science and Technology Normal University, Nanchang 330013,China
  • 相关基金：Project （50401022） supported by the National Natural Science Foundation of China; Project （0650034） supported by the Natural Science Foundation of Jiangxi Province, China
作者： 李明升[1], 张淑娟[1], 娄瑾[1], 刘庭芝[1], 周泽华[1], 杨干兰[1], 胡长员[1], 李文魁[1]
关键词： 电弧离子电镀法, 光催化性能, 二氧化钛薄膜, 氮掺杂, arc ion plating, photocatalytic TiO2, N-doped TiO2, absorption edge
中文摘要：

Corresponding author： LI Ming-sheng; Tel： ＋86-791-3831266; E-mail：mshli@163.com

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期刊信息
  • 《中国有色金属学报：英文版》
  • 中国科技核心期刊
  • 主管单位:中国科学技术协会
  • 主办单位:中国有色金属学会
  • 主编：黄伯云
  • 地址：中国长沙中南大学
  • 邮编：410083
  • 邮箱：f-xsxb@csu.edu.cn
  • 电话：0731-88830949
  • 国际标准刊号：ISSN：1003-6326
  • 国内统一刊号：ISSN：43-1239/TG
  • 邮发代号:42-317
  • 获奖情况:
  • 国家“双百”期刊,第二届全国优秀科技期刊评比二等奖,中国有色金属工业总公司优秀科技期刊一等奖
  • 国内外数据库收录:
  • 俄罗斯文摘杂志,美国化学文摘（网络版）,荷兰文摘与引文数据库,美国工程索引,美国剑桥科学文摘,美国科学引文索引（扩展库）,英国科学文摘数据库,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊
  • 被引量:1159