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硅基双极低噪声放大器的能量注入损伤与机理
  • ISSN号:1674-4926
  • 期刊名称:《半导体学报:英文版》
  • 时间:0
  • 分类:TN722[电子电信—电路与系统]
  • 作者机构:[1]西安电子科技大学微电子学院教育部宽禁带半导体材料与器件重点实验室,西安710071
  • 相关基金:国家自然科学基金资助项目(批准号:60776034)
中文摘要:

针对Si基双极型低噪声放大器(LNA),用脉冲调制150MHz射频信号在其输入端进行了能量注入实验,研究结果表明Si基LNA的噪声系数和增益特性都是注入能量的敏感参数.样品解剖和电路仿真显示能量作用使LNA内部晶体管出现基极/发射极金属化损伤,基极金一半接触电阻增大导致了LNA噪声系数增大,而Si基双极器件hFE随时间正向漂移损伤模式使LNA增益随注入能量的增加而增大.研究表明,由于能量作用下损伤效应的复杂性,以往可靠性研究中单纯采用增益的变化来衡量器件与电路的损伤效应的方法是不全面的.

英文摘要:

Experiments of the energy injection into silicon bipolar low-noise amplifiers (LNA) are conducted by introducing pulsemodulated 150MHz radio frequency (RF) signal at LNAs inputs. The results show that the noise figure and the gain characteristic of silicon LNAs are sensitive to the injection energy. The metallization damage between the base and the emitter is correlated with the energy injection from the sample dissection analysis. The noise figure increases due to increased metal-semiconductor contact resistance of the base. The gain of the LNAs also increases with injection energy following the positive drift damage model of hvE for the silicon bipolar devices. Therefore, the traditional way to evaluate the damage effect of devices and circuits simply by the change of the gain is not comprehensive due to the complexity of the energy injection induced damage.

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期刊信息
  • 《半导体学报:英文版》
  • 中国科技核心期刊
  • 主管单位:中国科学院
  • 主办单位:中国电子学会 中国科学院半导体研究所
  • 主编:李树深
  • 地址:北京912信箱
  • 邮编:100083
  • 邮箱:cjs@semi.ac.cn
  • 电话:010-82304277
  • 国际标准刊号:ISSN:1674-4926
  • 国内统一刊号:ISSN:11-5781/TN
  • 邮发代号:2-184
  • 获奖情况:
  • 90年获中科院优秀期刊二等奖,92年获国家科委、中共中央宣传部和国家新闻出版署...,97年国家科委、中共中央中宣传部和国家新出版署三等奖,中国期刊方阵“双效”期刊
  • 国内外数据库收录:
  • 俄罗斯文摘杂志,美国化学文摘(网络版),荷兰文摘与引文数据库,美国工程索引,美国剑桥科学文摘,英国科学文摘数据库,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊(2004版),中国北大核心期刊(2008版),英国英国皇家化学学会文摘,中国北大核心期刊(2000版)
  • 被引量:7754