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Band offsets of Er2O3 films grown on Ge substrates by X-ray photoelectron spectroscopy
  • ISSN号：0947-8396
  • 期刊名称：Applied Physics A-Materials Science & Processi
  • 时间：0
  • 页码：-
  • 相关项目：Ge衬底上氧化铒、氧化铥高K栅介质材料的制备及物理特性研究
作者： Lining Peng|Zebo Fang|Yanxia Cui|Yuying Hao|
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