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光电化学刻蚀n型多孔硅过程中的介质增强荧光效应
  • 期刊名称：纳米科技
  • 时间：0
  • 页码：57-61
  • 语言：中文
  • 相关项目：非理想状态下压电传感器的响应理论与应用研究
作者： 于磊|李怀祥|于凯|
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非理想状态下压电传感器的响应理论与应用研究
期刊论文 37
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