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AlN单晶生长研究进展
  • 期刊名称:人工晶体学报 35(2006)177
  • 时间:0
  • 分类:O782[理学—晶体学]
  • 作者机构:[1]山东大学晶体材料国家重点实验室,济南250100
  • 相关基金:国家自然科学基金(No.50472068)和教育部“新世纪优秀人才科技计划”资助项目
  • 相关项目:升华法生长氮化铝单晶
中文摘要:

AIN是一种重要的半导体材料,由于具有宽带隙、高临界击穿电场、高热导率、高载流子饱和漂移速度等优越的特性,在微电子和光电子领域具有广泛的应用前景。本文综述了国际上AIN单晶生长的研究进展,对其结构特点、生长方法的选择、生长过程中的问题及存在的结构缺陷等方面进行了介绍。

英文摘要:

As an important semiconductor material, A1N has a bright future in the microelectronic and optoelectronic fields with its unique combination of properties such as wide bandgap, high breakdown field, high thermal conductivity and high saturated electron drift velocity. This paper reviews the research progress in AIN crystal growth. Structural characteristics, growth methods, problems in the growth process and structural defects are also introduced.

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