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沉积条件对LiCoO2薄膜结构与形貌的影响
  • ISSN号:1001-9731
  • 期刊名称:《功能材料》
  • 时间:0
  • 分类:O484.4[理学—固体物理;理学—物理]
  • 作者机构:[1]华南理工大学机械工程学院,广东广州510640, [2]香港城市大学物理与材料工程系,香港
  • 相关基金:教育部“长江学者与创新团队计划”团队资助项目(IRT0551)
中文摘要:

采用脉冲激光沉积(PLD)方法制备了Li—CoO2薄膜,并研究了沉积条件对PLD生长的LiCoO2薄膜结构和形貌的影响。结果表明,适当减少激光功率可以有效降低LiCoO2薄膜表面粗糙度;采用在400℃原位退火可以得到层状结构的LiCoO2薄膜,而在一定范围内提高原位退火温度和升高氧气偏压可以提高层状结构的LiCoO2薄膜的结晶度。本实验中最优工艺制备的LiCoO2薄膜具有较好电化学可逆性,首次放电容量为36μAh/(μm·cm^2),循环效率为94.44%。

英文摘要:

In this work, pulsed laser deposition (PLD) was used to grow LiCoO2 films and the effect of the deposition conditions, on the structure and morphology of LiCoO2 films was investigated. The results showed that the surface roughness of LiCoO2 films can be reduced by decreasing the laser power to a certain degree and the crystallinity of LiCoO2 films can be improved by elevating the annealing temperature and increasing the oxygen pressure although layered LiCoO2 films can be obtained by in-situ annealing at as low as 400℃. The LiCoO2 films under the optimized deposition condition have good electrochemnical reversibilty with an initial discharge capacity of 36μAh/(μm · cm^2) and a cycling efficiency of 94.44%.

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期刊信息
  • 《功能材料》
  • 北大核心期刊(2011版)
  • 主管单位:重庆材料研究院
  • 主办单位:重庆材料研究院
  • 主编:黄伯云
  • 地址:重庆北碚区蔡家工业园嘉德大道8号
  • 邮编:400707
  • 邮箱:gnclwb@126.com
  • 电话:023-68264739
  • 国际标准刊号:ISSN:1001-9731
  • 国内统一刊号:ISSN:50-1099/TH
  • 邮发代号:78-6
  • 获奖情况:
  • 2008、2011年连续获中国精品科技期刊,2010获重庆市双十佳期刊
  • 国内外数据库收录:
  • 美国化学文摘(网络版),荷兰文摘与引文数据库,美国工程索引,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊(2004版),中国北大核心期刊(2008版),中国北大核心期刊(2011版),中国北大核心期刊(2014版),英国英国皇家化学学会文摘,中国北大核心期刊(2000版)
  • 被引量:30166