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Nitrogen plasma source ion implantation (PSII) for improvement of blood-compatibility of silicon
  • 期刊名称：Key Engineering Mater
  • 时间：0
  • 页码：288-289(2005), 335-
  • 语言：英文
  • 相关项目：Si(C)-N系薄膜的血液接触活化机理及抗凝血优化
作者： P.Yang|G.J.Wan|X.Xie|Y.X.Leng|H.F.Zhou|P.K.Chu and N.Huang*|
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