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Ultrathin Mo/MoN bilayer nanostructure for diffusion barrier application of advanced Cu metallizatio
  • ISSN号：0169-4332
  • 期刊名称：Applied Surface Science
  • 时间：0
  • 页码：6003-6006
  • 相关项目：用于自形成扩散阻挡层的铜基稀合金薄膜在超临界流体中的沉积机理研究
作者： Zhao Bin|Sun Kefei|Song Zhenlun|Yang Junhe|
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