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AlN/Al2O3(0001)薄膜生长与吸附的表面界面结构研究
  • ISSN号:1001-0548
  • 期刊名称:《电子科技大学学报》
  • 时间:0
  • 分类:O647[理学—物理化学;理学—化学] O793[理学—晶体学]
  • 作者机构:[1]四川师范大学化学与材料科学学院,成都610066, [2]四川师范大学物理电子工程学院,成都610066, [3]四川师范大学可视化计算与虚拟现实四川省重点实验室,成都610066
  • 相关基金:国家自然科学基金(50942025,51172150)
中文摘要:

针对氮化铝异质薄膜的制备,构建了两种AlN/Al 2 O 3(0001)材料生长模型,采用基于密度泛函理论的平面波超软赝势方法,对α-Al 2 O 3(0001)表面吸附AlN进行了模拟计算。分析了AlN在表面的吸附位置及其表面界面结构,发现AlN相对具有氧六角对称结构的最近邻的表面Al-O键发生了30°的偏转,稳定的化学吸附消除了吸附前表面Al-O层的驰豫,从而有利于AlN薄膜的铅锌矿结构的形成。

英文摘要:

In view of the AlN thin films preparation, two AlN/Al2O3(0001) growth models have been built. With the plane wave ultrasoft pseudo-potential method based on the density functional theory, the analog computation of the AlN surface absorption ofα-Al 2 O 3 (0001) has been made. The analysis of the AlN surface absorption site and the structures of surface and interface finds that a 30° angle of deflection exists between AlN and the nearest surface. The stability of the chemical absorption eliminates the relaxation surface absorption of Al-O film and therefore benefits the formation of the wurtzite structure of AlN film.

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期刊信息
  • 《电子科技大学学报》
  • 北大核心期刊(2011版)
  • 主管单位:国家教育部
  • 主办单位:电子科技大学
  • 主编:周小佳
  • 地址:成都市成华区建设北路二段四号
  • 邮编:610054
  • 邮箱:xuebao@uestc.edu.cn
  • 电话:028-83202308
  • 国际标准刊号:ISSN:1001-0548
  • 国内统一刊号:ISSN:51-1207/T
  • 邮发代号:62-34
  • 获奖情况:
  • 全国优秀科技期刊,第二届全国优秀科技期刊二等奖,两次获国家新闻出版署、国家教委“全国高校自然科...,中国期刊方阵双百期刊
  • 国内外数据库收录:
  • 美国化学文摘(网络版),美国数学评论(网络版),德国数学文摘,荷兰文摘与引文数据库,美国工程索引,美国剑桥科学文摘,英国科学文摘数据库,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊(2004版),中国北大核心期刊(2008版),中国北大核心期刊(2011版),中国北大核心期刊(2014版),中国北大核心期刊(2000版)
  • 被引量:12314