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外加偏置电场对类金刚石薄膜激光损伤形貌影响研究
  • ISSN号:1672-7126
  • 期刊名称:真空科学与技术学报
  • 时间:0
  • 页码:11-14
  • 分类:O484.4[理学—固体物理;理学—物理]
  • 作者机构:[1]西安理工大学应用物理系,西安710048, [2]西安工业大学陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室,西安710032
  • 相关基金:国家自然科学基金资助项目(60978040 60878032); 陕西省科技厅国际合作项目(S2010KW-69)
  • 相关项目:无氢类金刚石薄膜激光破坏机制的研究
中文摘要:

研究了使用非平衡测控溅射技术沉积的类金刚石(DLC)薄膜其抗激光损伤能力;通过对比施加偏置电场前后薄膜的损伤情况,发现:DLC薄膜施加偏置电场后,薄膜的激光损伤区域内有大量丝状薄膜,损伤形貌存在明显不同,损伤面积减小;薄膜的激光损伤情况得到改善。实验结果显示,外加偏置电场对DLC薄膜的损伤有影响。认为:激光在DLC薄膜中激励产生的光生电子在电场的作用下产生快速漂移,间接降低了激光辐照区域内的局部能量密度,减缓了薄膜的石墨化,提高了DLC薄膜的抗激光损伤能力。

英文摘要:

We addressed the laser irradiation damages of the diamond-like-carbon(DLC) films.The DLC films were deposited by unbalanced magnetron sputtering on substrates of p-type silicon wafer.The microstructures of the damages with and without a bias were compared.The results show that the bias significantly alleviates the laser-induced damage.For example,without a bias,the DLC films,with lots of the laser burnt pits and cracks,peeled off almost completely;in contrast,with a bias,the peeling-off was less so serious,and the laser burnt spot was smaller,where some whisker-shaped fragments existed.We suggest that the influence of the bias on laser-induced photoelectrons may possibly account for the damage reduction of laser irradiation.

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期刊信息
  • 《真空科学与技术学报》
  • 中国科技核心期刊
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  • 主办单位:中国真空学会
  • 主编:李德杰
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  • 国际标准刊号:ISSN:1672-7126
  • 国内统一刊号:ISSN:11-5177/TB
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  • 国内外数据库收录:
  • 美国化学文摘(网络版),荷兰文摘与引文数据库,美国工程索引,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊(2004版),中国北大核心期刊(2008版),中国北大核心期刊(2011版),中国北大核心期刊(2014版),英国英国皇家化学学会文摘,中国北大核心期刊(2000版)
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