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对以并五苯和酞菁铜为不同有源层的有机薄膜晶体管特性研究
  • ISSN号:1000-3290
  • 期刊名称:物理学报
  • 时间:0
  • 页码:5911-5917
  • 语言:中文
  • 分类:TN321.5[电子电信—物理电子学] TN304.055[电子电信—物理电子学]
  • 作者机构:[1]北京交通大学光电子技术研究所,北京100044, [2]北京交通大学发光与光信息技术教育部重点实验室,北京100044
  • 相关基金:国家高技术研究发展计划(863)(批准号:2006AA03Z0412),国家自然科学基金(批准号:10774013,60576016),北京交通大学优秀博士生科技创新基金(批准号:48024),博士点新教师基金(批准号:20070004031),北京市科技新星计划(批准号:2007A024),教育部留学回国科研启动基金、校基金(批准号:2005SM057)资助的课题.
  • 相关项目:固态阴极射线发光效率的深层次表征及提高
中文摘要:

通过扫描电镜和X射线衍射对SiO2衬底上生长并五苯和酞菁铜薄膜的表面形貌进行表征,并得到在SiO2衬底上生长的并五苯薄膜是以岛状结构生长,其大小约为100 nm,且薄膜有较好的结晶取向,呈多晶态存在.酞菁铜薄膜则没有表现出明显的生长机理,其呈非晶态存在.还对通过掩膜的方法制作得以酞菁铜和并五苯为有源层的顶栅极有机薄膜晶体管的特性进行了研究.有源层的厚度为40 nm,绝缘层SiO2的厚度为250 nm,器件的沟道宽长比(W/L)为20.通过Keithley 2410 I-V测量仪对OTFTs器件的电学性质进行表征,其器件的开关电流比(on/off)分别为10^5和10^4,阈值电压VTH分别为-20 V和-15 V,器件的场效应载流子迁移率μEF分别为0.0694 cm^2/V·s和1.201cm^2/V·s.

英文摘要:

The surface morphology and crystallization of pentacene and CuPc films deposited on SiO2 substrate are characterized by X- ray diffraction (XRD) and scaning electron microscopy (SEM). It was observed that the pentacene film has island structure, the sizes of islands were about 100 nm. The pentacene has clearer orientation than CuPc. We also studied organic thin film transistors (OTFI's) with different active layers of pentacene and CuPc, fabricated by shadow mask to investigate the characteristics of the device. The active layers pentacene and CuPc have the thickness of 40 nm, the thickness of gate insulator layer SiO2 is 250 nm and the ratio of width to length (W/L) of device channel is 20. We analyzed the property of devices by Keithley 2410 I-V. The results presented here show that OTFTs devices in which pentacene and CuPc are used as active layer exhibited the field-effect mobility (μEF) of 1.201 cm^2/V·s and 0.0694 c m·2/V·s, threshold voltage ( Vth ) of -20 V and - 15 V, and (on/off) current radio of 10^4 and 10^5 , respectively.

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期刊信息
  • 《物理学报》
  • 北大核心期刊(2011版)
  • 主管单位:中国科学院
  • 主办单位:中国物理学会 中国科学院物理研究所
  • 主编:欧阳钟灿
  • 地址:北京603信箱(中国科学院物理研究所)
  • 邮编:100190
  • 邮箱:apsoffice@iphy.ac.cn
  • 电话:010-82649026
  • 国际标准刊号:ISSN:1000-3290
  • 国内统一刊号:ISSN:11-1958/O4
  • 邮发代号:2-425
  • 获奖情况:
  • 1999年首届国家期刊奖,2000年中科院优秀期刊特等奖,2001年科技期刊最高方阵队双高期刊居中国期刊第12位
  • 国内外数据库收录:
  • 美国化学文摘(网络版),荷兰文摘与引文数据库,美国工程索引,美国科学引文索引(扩展库),英国科学文摘数据库,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊(2004版),中国北大核心期刊(2008版),中国北大核心期刊(2011版),中国北大核心期刊(2014版),中国北大核心期刊(2000版)
  • 被引量:49876