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热退火诱导C^＋注入Si晶体的蓝光发射
  • ISSN号：1000-985X
  • 期刊名称：《人工晶体学报》
  • 时间：0
  • 分类：O643[理学—物理化学;理学—化学]
  • 作者机构：[1]云南大学光电信息材料研究所,昆明650091, [2]上海飞机制造有限公司,上海200436
  • 相关基金：国家自然科学基金（10964016,10990103）;教育部科学技术研究重点项目（210207）;云南大学理工基金项目（2013CG024）
作者： 周原[1,2], 王茺[1], 韦冬[1], 卢赛[1], 杨宇[1]
关键词： 离子注入, SiC发光, 量子限制效应, ion implanted, SiC cluster, photoluminescence, quantum confinement effect
中文摘要：

在室温和注入能量为60 keV的条件下,在硅晶片中注入C＋,使其剂量达到5.0×1016cm-2,随后即对样品进行高温退火处理。采用X射线衍射（XRD）,拉曼和光致发光（PL）光谱技术对样品进行了表征。实验结果显示：C＋注入后经高温退火的样品的XRD图谱中,在40°附近处出现了衍射峰,表明经退火后样品中形成了纳米尺寸的SiC团簇,并观察到了强烈的蓝光发射。PL光谱中的蓝光峰起源于量子限制效应。

英文摘要：

C＋had been implanted into the bulk silicon with the energy to 60 keV and the dose of 5. 0 × 1016cm-2,at the room temperature. Then,the samples had been annealed at high temperatures. The samples had been characterized by the means of XRD, Raman and photoluminescence（PL） spectroscopy. A XRD peak was observed at 40° in the high temperature annealed samples,this indicated that the SiC clusters had formed induced by the annealing process. Also,the strong blue-light emission was observed using PL technique. It is proposed that the quantum confinement effects should respond to the blue light emission.

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期刊信息
  • 《人工晶体学报》
  • 中国科技核心期刊
  • 主管单位:中国建材工业协会
  • 主办单位:中国硅酸盐学会 晶体生长与材料专业委员会 中材人工晶体研究院
  • 主编：余明清
  • 地址：北京市733信箱
  • 邮编：100018
  • 邮箱：
  • 电话：010-65492963 65492968 65493320
  • 国际标准刊号：ISSN：1000-985X
  • 国内统一刊号：ISSN：11-2637/O7
  • 邮发代号:
  • 获奖情况:
  • 1997年获国家科技优秀期刊,获部级优秀科技期刊奖,中国期刊方阵“双效”期刊
  • 国内外数据库收录:
  • 美国化学文摘（网络版）,荷兰文摘与引文数据库,美国工程索引,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊（2004版）,中国北大核心期刊（2008版）,中国北大核心期刊（2011版）,中国北大核心期刊（2014版）,中国北大核心期刊（2000版）
  • 被引量:9943