位置：成果数据库 > 期刊 > 期刊详情页
Growth and interface of amorphous La2Hf2O7/Si thin film
  • ISSN号：1002-0721
  • 期刊名称：Journal of Rare Earths
  • 时间：0
  • 页码：189-192
  • 相关项目：La基稀土高介电系数(k)栅介质材料的同步辐射研究
作者： Cheng Xuerui|Qi Zeming|Zhang Huanjun|Zhang Guobin|Pan Guoqiang|
同期刊论文项目
La基稀土高介电系数(k)栅介质材料的同步辐射研究
期刊论文 10
同项目期刊论文
Band offsets between amorphous La2Hf2O7 and silicon
The interface reaction of high-k La2Hf2O7/Si thin film grown by pulsed laser deposition
HfO2栅介质薄膜的结构和介电性质研究
Infrared phonon modes and dielectric properties of La2Zr2O7: Comparing thin film to bulk material
Vibrational and dielectric properties of La2Hf2O7: Experiment and theory
硅基氧化钆薄膜的生长及结构
The local structure, infrared phonon modes and the origin of the dielectric constant in La2Hf2O7 thi
同步辐射显微红外光谱法应用于杜仲的研究
期刊信息
  • 《中国稀土学报：英文版》
  • 中国科技核心期刊
  • 主管单位:中国科协
  • 主办单位:中国稀土学会
  • 主编：徐光宪
  • 地址：北京新街口外大门2号
  • 邮编：100088
  • 邮箱：jrechina@263.net
  • 电话：010-62014832
  • 国际标准刊号：ISSN：1002-0721
  • 国内统一刊号：ISSN：11-2788/TF
  • 邮发代号:2-613
  • 获奖情况:
  • 优秀科技期刊奖,中国科协择优资助期刊,中国期刊方阵“双效”期刊
  • 国内外数据库收录:
  • 俄罗斯文摘杂志,美国化学文摘（网络版）,荷兰文摘与引文数据库,美国工程索引,美国剑桥科学文摘,美国科学引文索引（扩展库）,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊
  • 被引量:1055