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超导涂层导体中NiO缓冲层的制备与研究
  • ISSN号：1001-9731
  • 期刊名称：《功能材料》
  • 时间：0
  • 分类：TB33[一般工业技术—材料科学与工程] TB34[一般工业技术—材料科学与工程]
  • 作者机构：[1]西南交通大学超导研究开发中心,磁浮技术与磁浮列车教育部重点实验室,四川成都610031, [2]新南威尔士大学材料科学与工程学院,澳大利亚悉尼2052
  • 相关基金：国家自然科学基金资助项目（50588201 50872116）; 国家高技术研究发展计划（863计划）资助项目（2007AA03Z203）; 教育部长江学者创新团队计划资助项目（IRTO751）; 高等学校博士学科点专项科研基金资助项目（200806130023 200806131034）; 中央高校专项基金资助项目（SWJTU09ZT24）; 澳大利亚研究理事会资助项目（DP0559872 DP0881739）
作者： 张红[1], 赵勇[1,2], 张欣[1], 王贺龙[1], 蒲明华[1], 潘敏[1]
关键词： 涂层导体, NiO缓冲层, 氧化外延, 织构, coated conductor, NiO buffer layer, oxidation epitaxy, texture
中文摘要：

镍基带的自发氧化是基于镍基带上制备涂层超导体所面临的一个重要问题。在镍基带上预先制备一层织构的NiO薄膜是解决该问题的一个简单而有效的方法。研究了空气中NiO薄膜的表面氧化外延生长特性,发现高温短时有利于制备高织构度、高平整度和高致密度的NiO薄膜。在优化的温度和时间条件下,制备了高品质的NiO薄膜,并在NiO上利用化学溶液沉积法制备了SmBiO3外延缓冲层,为进一步超导层的制备提供了可能的实用条件。

英文摘要：

A randomly oriented NiO growth is an important problem for the preparation of superconducting coated conductor.A simple and valid method is to prepare textured NiO film on the bare nickel tape.In this paper,NiO film was prepared in air by the surface oxidation epitaxial method.High temperature and short time are in favor of the growth of smooth and densification NiO film.We obtained the smooth and densification NiO film at optimal temperature and for optimal time.The buffer layer of SmBiO3 was fabricated on the NiO film.This provides a potential value of the substrate for preparing superconducting layer.

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期刊信息
  • 《功能材料》
  • 北大核心期刊（2011版）
  • 主管单位:重庆材料研究院
  • 主办单位:重庆材料研究院
  • 主编：黄伯云
  • 地址：重庆北碚区蔡家工业园嘉德大道8号
  • 邮编：400707
  • 邮箱：gnclwb@126.com
  • 电话：023-68264739
  • 国际标准刊号：ISSN：1001-9731
  • 国内统一刊号：ISSN：50-1099/TH
  • 邮发代号:78-6
  • 获奖情况:
  • 2008、2011年连续获中国精品科技期刊,2010获重庆市双十佳期刊
  • 国内外数据库收录:
  • 美国化学文摘（网络版）,荷兰文摘与引文数据库,美国工程索引,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊（2004版）,中国北大核心期刊（2008版）,中国北大核心期刊（2011版）,中国北大核心期刊（2014版）,英国英国皇家化学学会文摘,中国北大核心期刊（2000版）
  • 被引量:30166