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硅基低维红外探测薄膜材料的研究概况
  • ISSN号:1005-023X
  • 期刊名称:《材料导报》
  • 时间:0
  • 分类:TN386[电子电信—物理电子学] TN401[电子电信—微电子学与固体电子学]
  • 作者机构:[1]云南大学光电信息材料研究所,昆明650091
  • 相关基金:国家自然科学基金(60567001)资助;云南省应用基础研究重点基金(2008CC012)资助
中文摘要:

Si基探测器与硅读出电路的单片集成不仅使光电芯片在性能上得到重要改善,还可极大地降低成本。在对量子阱、量子点原理描述的基础上,综述了它们应用于薄膜红外探测材料的研究进展,提出了近期工作的重点。

英文摘要:

Monolithically integrating photodetectors with Si CMOS circuitry would result an optoelectronic chip with significant increase in performance and reduction in cost. Here the Si photodetectors formed using both the quantum well and quantum dot structures are reported. Attention is also devoted to the physical principle of low dimension silicon as infrared detectors, as they are intended for applications on acquisition from stacks of detectors. The recent emphasis of research is proposed.

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期刊信息
  • 《材料导报:纳米与新材料专辑》
  • 主管单位:重庆西南信息有限公司(原科技部西南信息中心)
  • 主办单位:重庆西南信息有限公司(原科技部西南信息中心)
  • 主编:
  • 地址:重庆市渝北区洪湖西路18号
  • 邮编:401121
  • 邮箱:matreved@163.com
  • 电话:023-67398525
  • 国际标准刊号:ISSN:1005-023X
  • 国内统一刊号:ISSN:50-1078/TB
  • 邮发代号:
  • 获奖情况:
  • 国内外数据库收录:
  • 被引量:3397