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椭圆偏振研究溅射气压对锰膜光学性质的影响
  • ISSN号：1001-9014
  • 期刊名称：《红外与毫米波学报》
  • 时间：0
  • 分类：O484.41[理学—固体物理;理学—物理]
  • 作者机构：贵州大学大数据与信息工程学院新型光电子材料与技术研究所
  • 相关基金：国家自然科学基金项目(61264004);贵州省自然科学基金([2013]2119号);贵州省优秀科
作者： 唐华杰, 张晋敏, 金浩, 邵飞, 胡维前, 谢泉
关键词： 射频溅射, 金属锰膜, 溅射气压, 椭偏光谱
中文摘要：

采用射频磁控溅射技术在Si(111)基片上制备金属锰膜,用椭圆偏振光谱在2.0~4.0 e V光子能量范围内研究了溅射压强对锰膜光学性质的影响.分别用德鲁得-洛伦兹模型以及有效介质模型对椭偏参数进行拟合,结果表明随压强增大薄膜致密度先增大后减少;折射率随压强增大先减少后增大;而消光系数随压强的变化与光子能量有关,在低能量区变化复杂,高能量区随压强增加与折射率规律一致.分析表明上述变化与薄膜的致密度密切相关.

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期刊信息
  • 《红外与毫米波学报》
  • 中国科技核心期刊
  • 主管单位:中国科学院
  • 主办单位:中国科学院上海技术物理研究所 中国光学学会
  • 主编：褚君浩
  • 地址：上海市玉田路500号
  • 邮编：200083
  • 邮箱：jimw@mail.sitp.ac.cn
  • 电话：021-25051553
  • 国际标准刊号：ISSN：1001-9014
  • 国内统一刊号：ISSN：31-1577/TN
  • 邮发代号:4-335
  • 获奖情况:
  • 1992、1996年获全国优秀学术期刊一等奖,1999年首届国家期刊奖
  • 国内外数据库收录:
  • 俄罗斯文摘杂志,美国化学文摘（网络版）,荷兰文摘与引文数据库,美国工程索引,美国剑桥科学文摘,美国科学引文索引（扩展库）,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊（2004版）,中国北大核心期刊（2008版）,中国北大核心期刊（2011版）,中国北大核心期刊（2014版）,瑞典开放获取期刊指南,中国北大核心期刊（2000版）
  • 被引量:8778