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入射角度对Ti/Al(001)沉积薄膜微观结构的影响
  • ISSN号:1005-023X
  • 期刊名称:《材料导报》
  • 时间:0
  • 分类:TP333.4[自动化与计算机技术—计算机系统结构;自动化与计算机技术—计算机科学与技术]
  • 作者机构:[1]湘潭大学材料与光电物理学院,湘潭大学低维材料及其应用技术教育部重点实验室,湘潭411105
  • 相关基金:国家自然科学基金(10702058);博士后科学基金(20090451100)
中文摘要:

采用分子动力学方法模拟Ti在A1(001)表面的薄膜生长过程,计算不同入射角度下雨薄膜的表面粗糙度、堆积密度、径向分布函数、键对含量比。结果表明,当入射角度小于30°时,其对Ti薄膜粗糙度、堆积密度的影响很小,而当入射角度大于30。时,Ti薄膜粗糙度增加、堆积密度下降;入射角度对Ti薄膜微观结构的影响很小,且Ti薄膜以fcc结构为主。

英文摘要:

Molecular dynamics method was used to simulate the film growth process of Ti atoms depositing on AI(001) substrate under various incident angles. Root-mean-square roughness, packing density, radial distribution function and the percentage of pair bonds of Ti thin film were calculated. The results indicate that the effects of incident angle on surface roughness and packing density are weak when the incident angle is smaller than 30° but when the incident angle is larger than 30°, the surface roughness increases and the packing density decreases. Increasing the incident angle has minor effects on the microstructure of Ti thin film, growing with an fcc structure.

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期刊信息
  • 《材料导报:纳米与新材料专辑》
  • 主管单位:重庆西南信息有限公司(原科技部西南信息中心)
  • 主办单位:重庆西南信息有限公司(原科技部西南信息中心)
  • 主编:
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  • 邮箱:matreved@163.com
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  • 国际标准刊号:ISSN:1005-023X
  • 国内统一刊号:ISSN:50-1078/TB
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