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Linear Plasma Sources for Large Area Film Deposition:A Brief Review
ISSN号:1009-0630
期刊名称:Plasma Science and Technology
时间:2014.4.15
页码:356-362
相关项目:磁镜场约束线形微波等离子体源的高密度特性研究
作者:
孟月东|方世东|沈洁|舒兴胜|
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期刊信息
《等离子体科学与技术:英文版》
主管单位:中国科学院 中国科协
主办单位:中国科学院等离子体物理研究所 中国力学学会
主编:万元熙、谢纪康
地址:合肥市1126信箱
邮编:230031
邮箱:pst@ipp.ac.cn
电话:0551-5591617 5591388
国际标准刊号:ISSN:1009-0630
国内统一刊号:ISSN:34-1187/TL
邮发代号:
获奖情况:
国内外数据库收录:
美国化学文摘(网络版),荷兰文摘与引文数据库,美国工程索引,美国剑桥科学文摘,美国科学引文索引(扩展库),英国科学文摘数据库
被引量:89