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磁控反应溅射制备钇掺杂TiO2薄膜的研究
  • ISSN号:1001-3849
  • 期刊名称:《电镀与精饰》
  • 时间:0
  • 分类:TG174.4[金属学及工艺—金属表面处理;金属学及工艺—金属学]
  • 作者机构:[1]沈阳理工大学环境与化学工程学院,辽宁沈阳110163, [2]中国科学院金属研究所金属腐蚀与防护国家重点实验室,辽宁沈阳110016, [3]中国科学院沈阳应用生态研究所,辽宁沈阳110016
  • 相关基金:基金项目:国家自然科学基金(50774074),国家重点基础研究发展计划(973计划)(2005CB121104)资助项目
中文摘要:

采用混合靶直流磁控反应溅射法,在玻璃基体上溅射沉积了含有氧化钇的TiO2薄膜。X-射线光电子能谱分析结果表明,薄膜是由Y2O3和TiO2复合氧化物组成的。钇的存在会抑制薄膜中二氧化钛晶体的形成。薄膜的紫外可见光谱透射率略有下降,而反射率有所增加。钇的掺杂对二氧化钛薄膜的光催化活性起负作用,光催化降解甲基橙反应的活性随钇含量的增加而下降。

英文摘要:

Y2O3 doped TiO2 films were prepared on glass substrates by means of pulsed DC reactive magnetron sputtering method using Ti and Y mixed target. XPS results showed that the films were composed of Y203-TiO2 composite oxides. The existence of yttrium inhibited the crystal growth of TiO2 in the films. UV-Visible transmittance of the films decreased slightly whereas their reflectance increased gently. Yttrium doping exerts detrimental effect on photocatalytic activity of the TiO2 films. Photocatalytic activity for degradation of methyl orange fo the film is declined with increasing yttrium concentration.

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期刊信息
  • 《电镀与精饰》
  • 北大核心期刊(2011版)
  • 主管单位:天津市科学技术协会
  • 主办单位:天津市电镀工程学会
  • 主编:赵达均
  • 地址:天津市河东区新开路美福园2号楼1门102
  • 邮编:300011
  • 邮箱:ddyjs@126.com
  • 电话:022-24410599 24322003
  • 国际标准刊号:ISSN:1001-3849
  • 国内统一刊号:ISSN:12-1096/TG
  • 邮发代号:18-145
  • 获奖情况:
  • 天津市精品科技期刊,天津市一级期刊
  • 国内外数据库收录:
  • 美国化学文摘(网络版),美国剑桥科学文摘,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊(2008版),中国北大核心期刊(2011版),中国北大核心期刊(2014版)
  • 被引量:5920