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退火温度对二氧化钛薄膜的性能影响
  • ISSN号:1005-5630
  • 期刊名称:《光学仪器》
  • 时间:0
  • 分类:O484.4[理学—固体物理;理学—物理]
  • 作者机构:上海理工大学光电信息与计算机工程学院,上海200093
  • 相关基金:国家重大基础研究计划(973计划)(2015CB352001);国家自然科学基金(61378060,61205156);上海市科学仪器重大专项(14142200902)
中文摘要:

为了获得性能优良的二氧化钛薄膜,采用电子束蒸发沉积方法制备二氧化钛薄膜,并分别在300、600、900℃空气中对样品进行退火处理以改善所制备二氧化钛薄膜的性能。分别采用X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)以及分光光度计研究了退火温度对二氧化钛薄膜结构和光学性能的影响。结果表明,退火处理可以使二氧化钛薄膜由非晶态薄膜转换为金红石型薄膜,且金红石晶型成分随退火温度的加大而增大,同时退火处理可以改善二氧化钛薄膜在300~1 200nm光谱范围的总吸光率以及增大二氧化钛薄膜的应用范围。

英文摘要:

In order to obtain good performance of titanium dioxide thin film,this experiment used electron beam evaporation deposition method to fabricate titanium films.Then the films were annealed at 300 degrees,600degrees,and 900 degrees to improve the performance of the preparation of titanium dioxide thin film.X-ray diffraction(XRD),atomic force microscope(AFM)and spectrophotometer were used respectively to study the influence of structure and optical properties of titanium oxide film.The results show that the model of the film at room temperature was amorphous but the films after annealing transformed to rutile which is proportional to the annealing temperature.Annealing could also improve the total light absorption of the titanium dioxide thin film in the 300~1 200 nm spectral range.Annealing treatment could broaden the application of titanium dioxide thin film.

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期刊信息
  • 《光学仪器》
  • 主管单位:中国科学技术协会
  • 主办单位:上海光学仪器研究所 中国仪器仪表学会光 中国光学学会工程光学专业委员会
  • 主编:
  • 地址:上海市军工路516号
  • 邮编:200093
  • 邮箱:gxyq@chinajournal.net.cn
  • 电话:021-55270110
  • 国际标准刊号:ISSN:1005-5630
  • 国内统一刊号:ISSN:31-1504/TH
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