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Novel formation of silicon-germanium bond: Insertion reactions of H2SiLiF with GeH3X (X = F, Cl, Br)
  • ISSN号：0022-328X
  • 期刊名称：Journal of Organometallic Chemistry
  • 时间：2014.1.15
  • 页码：112-116
  • 相关项目：若干含溴化合物光解离机制的高精度量子化学研究
作者： Li, Wen-Zuo|Yan, Bing-Fei|Xiao, Cui-Ping|Li, Qing-Zhong|Cheng, Jian-Bo|
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