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120-nm gate-length In_（0.7）Ga_（0.3）As/In_（0.52）Al_（0.48）As InP-based HEMT
  • ISSN号：1674-4926
  • 期刊名称：《半导体学报：英文版》
  • 时间：0
  • 分类：TN386[电子电信—物理电子学] TN305[电子电信—物理电子学]
  • 作者机构：[1]Institute of Microelectronics,Chinese Academy of Sciences,Beijing 100029,China, [2]School of Physical Science and Technology,Southwest University,Chongqing 400715,China
  • 相关基金：Project supported by the National Natural Science Foundation of China（No.60806024）; the Fundamental Research Funds for the Central Universities China（No.XDJK2009C020）.
作者： 黄杰, 郭天义, 张海英, 徐静波, 付晓君, 杨浩, 牛洁斌
关键词： HEMT器件, INP基, 纳米, 设备制造技术, 高电子迁移率, INGAAS, INALAS, 阈值电压, HEMT, InP, InGaAs/InAlAs, cutoff frequency, T-shaped gate
中文摘要：

Corresponding author. Email： jiehuang_79@sohu.com

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期刊信息
  • 《半导体学报：英文版》
  • 中国科技核心期刊
  • 主管单位:中国科学院
  • 主办单位:中国电子学会 中国科学院半导体研究所
  • 主编：李树深
  • 地址：北京912信箱
  • 邮编：100083
  • 邮箱：cjs@semi.ac.cn
  • 电话：010-82304277
  • 国际标准刊号：ISSN：1674-4926
  • 国内统一刊号：ISSN：11-5781/TN
  • 邮发代号:2-184
  • 获奖情况:
  • 90年获中科院优秀期刊二等奖,92年获国家科委、中共中央宣传部和国家新闻出版署...,97年国家科委、中共中央中宣传部和国家新出版署三等奖,中国期刊方阵“双效”期刊
  • 国内外数据库收录:
  • 俄罗斯文摘杂志,美国化学文摘（网络版）,荷兰文摘与引文数据库,美国工程索引,美国剑桥科学文摘,英国科学文摘数据库,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊（2004版）,中国北大核心期刊（2008版）,英国英国皇家化学学会文摘,中国北大核心期刊（2000版）
  • 被引量:7754