欢迎您!
东篱公司
退出
申报数据库
申报指南
立项数据库
成果数据库
期刊论文
会议论文
著 作
专 利
项目获奖数据库
位置:
成果数据库
>
期刊
> 期刊详情页
New Strategy for Electrochemical Micropatterning of Nafion Film in Sulfuric Acid Solution
ISSN号:0013-4686
期刊名称:Electrochimica Acta
时间:2014.11.10
页码:125-133
相关项目:铜互连层表面的约束刻蚀化学平坦化新方法
作者:
Cheng Wang|Hong-Wan Zhang|Jin-Fu Zhang|Dan Wu|Zhong-Qun Tian|Zhao-Wu Tian|Kang Shi|
同期刊论文项目
铜互连层表面的约束刻蚀化学平坦化新方法
期刊论文 18
会议论文 7
同项目期刊论文
Factors Influencing Hydroxyl Radical Formation in a Photo-Induced Confined Etching System
<a name="OLE_LINK5"></a><a name="OLE_LINK2"></a><a na
Electrogenerated chemical polishing of copper
A mixed elastohydrodynamic lubrication model with layered elastic theory for simulation of chemical
Numerical studies on scavenging reaction in confined etchant layer technique (CELT)
A novel planarization method based on photoinduced confined chemical etching.
A leveling method based on current feedback mode of scanning electrochemical microscopy.
Electrochemical mechanical micromachining based on confined etchant layer technique.
光诱导约束刻蚀体系中羟基自由基生成的影响因素
由苯胺二聚体电化学制备聚苯胺的形貌可控性初探
电化学微/纳米加工技术
工件旋转法磨削硅片的亚表面损伤分布