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阴极缓冲层对m-MTDATA/BAlq有机紫外光探测器性能的影响
  • ISSN号:1005-0086
  • 期刊名称:《光电子.激光》
  • 时间:0
  • 分类:O649.5[理学—物理化学;理学—化学]
  • 作者机构:[1]江苏大学化学化工学院,江苏镇江212000, [2]吉林师范大学环境友好材料制备与应用教育部重点实验室,吉林四平136000
  • 相关基金:国家自然科学基金(61405071,61205040)、教育部新世纪优秀人才支撑计划(NCET-10-0176)、吉林省科技厅(20130521019JH,20140101206JC)、江苏省普通高校研究生科研创新(CXLX13_663)和四平市科技局(2013050)资助项目
中文摘要:

制备了有机紫外光探测器(OUV-PD),器件结构为ITO/m-MTDATA(30nm)/m-MTDATA:BAlq(40-60nm,1∶1)/BAlq(40nm)/LiF(1nm)/Al(100nm),并研究了施加Liq、TPBi、Bphen和Zn(4-MeBTZ)2为阴极缓冲层时对器件性能的影响。实验结果表明,OUV-PD光响应与阴极缓冲层厚度和电子传输性能紧密相关,在1.05mW/cm2的波长为365nm UV光照射下,响应度最大值分别达到218mA/W、247mA/W、305mA/W和283mA/W。

英文摘要:

Organic ultraviolet photodetector(OUV-PD)has been specially concerned due to the advantages of wide range of material selection,low cost,flexibility and large-area manufacturing.The OUV-PD with structure of ITO/m-MTDATA(30nm)/m-MTDATA:BAlq(40-60 nm,1∶1)/BAlq(nm 40)/LiF(1nm)/Al(100nm)was prepared.The effects of Liq,TPBi,Bphen and Zn(4-MeBTZ)2as cathode buffer layers on the performance of OUV-PD are studied.The experimental results show that the photoresponse of OUV-PD is closely related to the thickness and electron mobility of cathode buffer layer.Under an illumination of 365 nm UV light with power of 1.05mW/cm2,the maximum values of response are 218mA/W,247mA/W,305mA/W and 283mA/W,respectively.

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期刊信息
  • 《光电子.激光》
  • 北大核心期刊(2011版)
  • 主管单位:天津市教育委员会
  • 主办单位:天津理工大学 中国光学学会
  • 主编:巴恩旭
  • 地址:天津市西青区宾水西道391号
  • 邮编:300384
  • 邮箱:baenxu@263.net baenxu@aliyun.com
  • 电话:022-60214470
  • 国际标准刊号:ISSN:1005-0086
  • 国内统一刊号:ISSN:12-1182/O4
  • 邮发代号:6-123
  • 获奖情况:
  • 中国期刊方阵“双效”期刊
  • 国内外数据库收录:
  • 美国化学文摘(网络版),荷兰文摘与引文数据库,美国工程索引,中国北大核心期刊(2004版),中国北大核心期刊(2008版),中国北大核心期刊(2011版),中国北大核心期刊(2014版),中国北大核心期刊(2000版)
  • 被引量:16551