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纳米4—H碳化硅薄膜的掺杂现象
  • ISSN号：1674-4926
  • 期刊名称：《半导体学报：英文版》
  • 时间：0
  • 分类：TN304.24[电子电信—物理电子学]
  • 作者机构：华中科技大学电子科学与技术系，武汉430074
  • 相关基金：国家教委博士点学科基金 ( 99J10 384) ;湖北省重大项目 ( 2 0 0 0Z0 40 0 7) ;湖北省自然科学基金 (J990 70 13) ;武汉市重点科技攻关资助项目~~
作者： 张洪涛, 徐重阳, 等
关键词： 碳化硅薄膜, 纳米结构, 掺杂, 电导率, Meyer-Neldel规则
中文摘要：

对纳米晶SiC薄膜进行了P和B的掺杂，B掺杂效率比P高，其暗电导预前因子与激活能遵守Meyer-Neldel规则，并有反转Meyer-Neldel规则出现，掺杂效率比非晶态碳化硅薄膜高是纳米碳化硅薄的特点之一，非晶态中的隧穿和边界透射对输运有一定贡献。

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期刊信息
  • 《半导体学报：英文版》
  • 中国科技核心期刊
  • 主管单位:中国科学院
  • 主办单位:中国电子学会 中国科学院半导体研究所
  • 主编：李树深
  • 地址：北京912信箱
  • 邮编：100083
  • 邮箱：cjs@semi.ac.cn
  • 电话：010-82304277
  • 国际标准刊号：ISSN：1674-4926
  • 国内统一刊号：ISSN：11-5781/TN
  • 邮发代号:2-184
  • 获奖情况:
  • 90年获中科院优秀期刊二等奖,92年获国家科委、中共中央宣传部和国家新闻出版署...,97年国家科委、中共中央中宣传部和国家新出版署三等奖,中国期刊方阵“双效”期刊
  • 国内外数据库收录:
  • 俄罗斯文摘杂志,美国化学文摘（网络版）,荷兰文摘与引文数据库,美国工程索引,美国剑桥科学文摘,英国科学文摘数据库,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊（2004版）,中国北大核心期刊（2008版）,英国英国皇家化学学会文摘,中国北大核心期刊（2000版）
  • 被引量:7754