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MOCVD的GaInP薄膜生长可视化研究
  • ISSN号:1004-731X
  • 期刊名称:《系统仿真学报》
  • 时间:0
  • 分类:TP391.9[自动化与计算机技术—计算机应用技术;自动化与计算机技术—计算机科学与技术]
  • 作者机构:[1]上海大学CIMS与机器人中心,上海200072
  • 相关基金:国家自然科学基金项目(60706014); 上海市重点学科建设项目资助(Y0102)
中文摘要:

运用动力学蒙特卡罗(KMC)方法对金属有机化学气相沉积(MOCVD)生长GaInP薄膜过程进行了模拟;将模拟的结果与虚拟现实(VR)系统开发的软件开发包Open Inventor接口,实现了MOCVD反应室内GaInP薄膜生长过程的可视化仿真。模拟仿真结果准确直观地展示了MOCVD反应室内GaInP薄膜生长的过程,揭示了扩散时间和衬底温度对GaInP薄膜形貌的影响规律;可视化结果为优化MOCVD生长GaInP薄膜的工艺参数提供理论依据。

英文摘要:

Methods of Kinetic Monte Carlo(KMC) was applied to simulation of the process of GaInP thin film grown by metal organic chemical vapor deposition(MOCVD).The results of simulation were used to access to development package Open Inventor developed by virtual reality(VR) system.The visualization emulation of the process of GaInP thin film growth in MOCVD reactor was realized.The results of simulation and visualization truly and intuitively display process of GaInP thin film growth in MOCVD reactor,and they reveal the rule of influence of diffusion time and substrate temperature on GaInP thin film morphology.The visualization results provide the optimizations of processing parameters which grow GaInP thin film by MOCVD with theoretical basis.

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期刊信息
  • 《系统仿真学报》
  • 北大核心期刊(2011版)
  • 主管单位:中国航天科工集团公司
  • 主办单位:北京仿真中心 中国仿真学会
  • 主编:李伯虎
  • 地址:北京市海淀区永定路50号院
  • 邮编:100039
  • 邮箱:simu-xb@vip.sina.com
  • 电话:010-88527147
  • 国际标准刊号:ISSN:1004-731X
  • 国内统一刊号:ISSN:11-3092/V
  • 邮发代号:82-9
  • 获奖情况:
  • 国内外数据库收录:
  • 美国化学文摘(网络版),荷兰文摘与引文数据库,英国科学文摘数据库,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊(2004版),中国北大核心期刊(2008版),中国北大核心期刊(2011版),中国北大核心期刊(2014版)
  • 被引量:51729