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金属Ni诱导横向晶化Ge纳米点/Si多层异质薄膜的特性研究
  • 期刊名称：半导体学报 2006 接受发表
  • 时间：0
  • 作者或编辑：3448
  • 第一作者所属机构：南京大学
  • 语言：中文
  • 相关项目：温差电低维结构材料的制备及性能研究
作者： 鄢波|张匡吉|施毅*|濮林|韩平|张荣|郑有炓|
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温差电低维结构材料的制备及性能研究
期刊论文 13 会议论文 16
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