位置：成果数据库 > 期刊 > 期刊详情页
Epitaxial orientation of Mg2 Si (110) thin film on Si(111) substrate
  • ISSN号：0021-8979
  • 期刊名称：Journal of Applied Physics
  • 时间：0
  • 页码：80-85
  • 语言：英文
  • 相关项目：Si基ZnO薄膜的表面/界面工程与第一性原理计算
作者： Zhang, X.N.|Wang, X.N.|Jia, J.F.|Wang, Y.|Xue, Q.K.|Du, X.L.|Zou, J.|Mei, Z.X.|Zhang, Z.|
同期刊论文项目
Si基ZnO薄膜的表面/界面工程与第一性原理计算
期刊论文 14 会议论文 12
同项目期刊论文
激光烧蚀靶材蒸发波模型的气体动力学与冲量耦合系数计算
First-principle study of Mg adsorption on Si(111) surfaces
Visible-blind ultraviolet photodetector based on double heterojunction of n-ZnO /insulator- MgOp-Si
Hole spin quantum beats in bulk ZnO
用拉曼光谱测量离子注入引起的晶格应变
0.28 MeV Zn离子注入GaInP/GaInAsP量子阱薄膜材料的损伤行为研究
Growth of single-crystalline ZnO film with two-dimensional periodic structure on Si(1 1 1) substrate
湿法刻蚀对Si基片孔点阵及ZnO外延薄膜周期形貌的影响
Low-temperature interface engineering for high-quality ZnO epitaxy on Si(111) substrate
硅基高质量氧化锌外延薄膜的界面控制