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Adsorption and diffusion of Si adatom near single-layer steps on Si surface
  • ISSN号：1674-1056
  • 期刊名称：《中国物理B：英文版》
  • 时间：0
  • 分类：O562[理学—原子与分子物理;理学—物理]
  • 作者机构：[1]Department of Physics, Suzhou University, Suzhou 215006, China, [2]National Laboratory for Infrared Physics, Shanghai Institute of Technical Physics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai 200083, China
  • 相关基金：Project supported by the National Natural Science Foundation of China （Grant No 10374069） and the National Laboratory for Infrared Physics, Shanghai Institute of Technical Physics, Chinese Academy of Sciences （Grant No 200412）.
作者： 朱晓焱[1,2], 黄燕[2]
关键词： 硅原子, 吸附理论, 扩散路径, ETB, 表面特征, step, adsorption, diffusion, empirical tight-binding
中文摘要：

E-mail： zhuxy@suda.edu.cn E-mail： hysherry@163.com; yhuang@mail.sitp.ac.cn

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期刊信息
  • 《中国物理B：英文版》
  • 中国科技核心期刊
  • 主管单位:中国科学院
  • 主办单位:中国物理学会和中国科学院物理研究所
  • 主编：欧阳钟灿
  • 地址：北京 中关村 中国科学院物理研究所内
  • 邮编：100080
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  • 国际标准刊号：ISSN：1674-1056
  • 国内统一刊号：ISSN：11-5639/O4
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