欢迎您!
东篱公司
退出
申报数据库
申报指南
立项数据库
成果数据库
期刊论文
会议论文
著 作
专 利
项目获奖数据库
位置:
成果数据库
>
期刊
> 期刊详情页
Simulation study of a mixed terminal structure for 4H-SiC merged PiN/Schottky diode
ISSN号:1674-1056
期刊名称:Chinese Physics B
时间:2011.11.11
页码:1-4
相关项目:新型高功率4H-SiC JBS二极管的研究
作者:
Huang Jian-Hua|Lu Hong-Liang|Zhang Yu-Ming|Zhang Yi-Men|Tang Xiao-Yan|Chen Feng-Ping|Song Qing-Wen|
同期刊论文项目
新型高功率4H-SiC JBS二极管的研究
期刊论文 14
会议论文 1
专利 3
同项目期刊论文
Edge termination study and fabrication of a 4H-SiC junction barrier Schottky diode
Investigation of current transport parameters of Ti/4H-SiC MPS diode with inhomogeneous barrier
Study of the effect of lithography deviation on 4H-SiC floating junction junction barrier Schottky d
4H-SiCn-MOSFET新型反型层迁移率模型
Investigation of surface morphology and ion activation of aluminium implanted 4H-SiC
Fabrication and characteristics of a 4H-SiC junction barrier Schottky diode
Simulation study on 4H-SiC power devices with high-k dielectric FP terminations
Investigation of a 4H-SiC metal-insulation-semiconductor structure with an Al2O3/SiO2 stacked dielec
Temperature-dependent characteristics of 4H-SiC junction barrier Schottky diodes
套刻偏差对4H-SiC浮动结结势垒肖特基二极管的影响研究
First-principles calculation on the concentration of intrinsic defects in 4H-SiC
4H—SiC n—MOSFET新型反型层迁移率模型
N型4H—SiC低温拉曼光谱特性
期刊信息
《中国物理B:英文版》
中国科技核心期刊
主管单位:中国科学院
主办单位:中国物理学会和中国科学院物理研究所
主编:欧阳钟灿
地址:北京 中关村 中国科学院物理研究所内
邮编:100080
邮箱:
电话:010-82649026 82649519
国际标准刊号:ISSN:1674-1056
国内统一刊号:ISSN:11-5639/O4
邮发代号:
获奖情况:
国内外数据库收录:
被引量:406