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金属注射成形制备多孔钨阴极基底
  • ISSN号:1002-8935
  • 期刊名称:《真空电子技术》
  • 时间:0
  • 分类:TN103[电子电信—物理电子学]
  • 作者机构:北京科技大学新材料技术研究院
  • 相关基金:国家自然科学基金(项目编号:NO.51574031,51574030,51574029);北京市自然科学基金(项目编号:NO.2162027);国家863项目(2013AA031101)
中文摘要:

采用金属粉末注射成形技术成功制得了尺寸精度高表面质量好以及具有优良孔隙特性的纯钨。利用扫描电镜表征其断口形貌,利用压汞法分析了阴极的孔隙特性。研究表明,经1900℃烧结180min后开孔孔隙率为24.58%,阴极平均孔径在1.91μm。经注射成形制备得到的多孔阴极基底孔隙分布均匀,孔隙连通度好。

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期刊信息
  • 《真空电子技术》
  • 中国科技核心期刊
  • 主管单位:中国电子科技集团公司
  • 主办单位:北京真空电子技术研究所
  • 主编:廖复疆
  • 地址:北京市朝阳区酒仙桥路13号
  • 邮编:100015
  • 邮箱:zhenkongdianzi@126.com
  • 电话:010-84560772 64361731-2231
  • 国际标准刊号:ISSN:1002-8935
  • 国内统一刊号:ISSN:11-2485/TN
  • 邮发代号:
  • 获奖情况:
  • 国内外数据库收录:
  • 被引量:2346