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LEC法生长富磷掺铁InP单晶晶格应变与残留应力研究
  • ISSN号:1000-985X
  • 期刊名称:《人工晶体学报》
  • 时间:0
  • 分类:TN304.2[电子电信—物理电子学]
  • 作者机构:[1]河北工业大学信息工程学院,天津300401, [2]中国电子科技集团公司第十三研究所专用集成电路国家重点实验室,石家庄050051
  • 相关基金:国家自然科学基金(61076004);高等学校博士学科点专项科研基金(20101317110001)
中文摘要:

运用原位磷注入合成法在高压单晶炉内合成富磷的InP熔体,并利用液封直拉法(LEC)生长出了3英寸富磷掺Fe的InP单晶。运用高分辨率X射线衍射技术、偏振差分透射谱测试技术、光致荧光谱技术对富磷掺Fe的InP晶片进行了结构、应力及发光特性测试。结果表明,晶格的应变导致了PL发光峰峰位的变化,晶格应变与残留应力测试结果相一致,说明材料生长过程中的热应力是导致样品晶格常数分布不均匀的主要因素。

英文摘要:

3-inch diameter P riched Fe-doped InP single crystal was grown by in-situ phosphorous injection synthesis liquid encapsulated Czochraski(LEC) method. The structure and luminescence properties of the wafer samples were characterized by high-resolution X-ray diffraction,transmitted differential spectrosopy and photoluminescence mapping method. The results indicate that crystal strain result in the photoluminescence peak wavelength shift,accompany with the results of residual stress, indicate that the thermal stress during the crystal growth process is the main factor inducing the inhomogeneous distribution of the lattice constant.

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期刊信息
  • 《人工晶体学报》
  • 中国科技核心期刊
  • 主管单位:中国建材工业协会
  • 主办单位:中国硅酸盐学会 晶体生长与材料专业委员会 中材人工晶体研究院
  • 主编:余明清
  • 地址:北京市733信箱
  • 邮编:100018
  • 邮箱:
  • 电话:010-65492963 65492968 65493320
  • 国际标准刊号:ISSN:1000-985X
  • 国内统一刊号:ISSN:11-2637/O7
  • 邮发代号:
  • 获奖情况:
  • 1997年获国家科技优秀期刊,获部级优秀科技期刊奖,中国期刊方阵“双效”期刊
  • 国内外数据库收录:
  • 美国化学文摘(网络版),荷兰文摘与引文数据库,美国工程索引,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊(2004版),中国北大核心期刊(2008版),中国北大核心期刊(2011版),中国北大核心期刊(2014版),中国北大核心期刊(2000版)
  • 被引量:9943