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超长单晶硅纳米丝的化学气相沉积法制备
  • ISSN号:1672-7126
  • 期刊名称:《真空科学与技术学报》
  • 时间:0
  • 分类:TB383[一般工业技术—材料科学与工程]
  • 作者机构:[1]浙江大学硅材料国家重点实验室,杭州310027
  • 相关基金:自然科学基金(No.60225010)和教育部重点科技项目(No.104199)
中文摘要:

采用化学气相沉积法在镀金硅片上制备出了大量直径均匀、长度大于100肿的单晶纳米硅丝。采用场发射扫描电镜(FESEM)、能谱分析(EDX)、透射电镜(TEM)和拉曼光谱(Rarnan)对样品进行了表征和分析,并对超长纳米硅丝的生长机理进行了讨论。

英文摘要:

A large amount of single crystal silicon nanowires are synthesized on gold-coated silicon wafers by chemical vapor deposition (CVD). The lengths of the silicon nanowires are more than 100 micrometers. The samples are characterized by field emission scanning electron microscopy (FESEM), transmission electron microscopy (TEM), energy dispersive x-ray detector (EDX) and Raman spectrum. The growth mechanism of the ultra-long silicon nanowires was also discussed.

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期刊信息
  • 《真空科学与技术学报》
  • 中国科技核心期刊
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  • 主办单位:中国真空学会
  • 主编:李德杰
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  • 国际标准刊号:ISSN:1672-7126
  • 国内统一刊号:ISSN:11-5177/TB
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  • 国内外数据库收录:
  • 美国化学文摘(网络版),荷兰文摘与引文数据库,美国工程索引,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊(2004版),中国北大核心期刊(2008版),中国北大核心期刊(2011版),中国北大核心期刊(2014版),英国英国皇家化学学会文摘,中国北大核心期刊(2000版)
  • 被引量:4421