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高岭石-氨基硅烷插层复合物的制备与表征
  • ISSN号：0454-5648
  • 期刊名称：《硅酸盐学报》
  • 时间：0
  • 分类：TB33[一般工业技术—材料科学与工程]
  • 作者机构：[1]中国矿业大学(北京)地球科学与测绘工程学院
  • 相关基金：国家自然科学基金重点项目(51034006);北京市共建项目专项资助(20121141301)
作者： 纪阳[1], 刘钦甫[1], 杜妍娜, 李晓光[1], 张帅[1], 左小超
关键词： 高岭石, 氨基硅烷, 插层复合物, 层间距
中文摘要：

以高岭石-甲醇(K-M)复合物为前驱体,利用置换法于常温下制备了3种高岭石-氨基硅烷插层复合物。用X射线衍射、Fourier变换红外光谱仪、透射电子显微镜、热分析仪等对复合物进行了表征。结果表明:3种高岭石-氨基硅烷插层复合物的层间距均扩大至2nm以上,插层率都大于95%。3种氨基硅烷分子均和K-M前驱体的甲氧基共同存在于高岭石层间,均呈两层倾斜排列,倾斜程度不同。氨基硅烷的插入破坏了高岭石层间的氢键,加剧了高岭石自身结构中硅氧四面体片层与铝氧八面体片层之间的错位,使得复合物片层出现不同程度的卷曲变形。3种高岭石-氨基硅烷插层复合物的热分解过程均分三步进行:表面水的蒸发及层间甲氧基的脱嵌分解、插层剂氨基硅烷分子的脱嵌、高岭石脱羟基。

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期刊信息
  • 《硅酸盐学报》
  • 中国科技核心期刊
  • 主管单位:中国科学技术协会
  • 主办单位:中国硅酸盐学会
  • 主编：南策文
  • 地址：北京海淀区三里河路11号
  • 邮编：100831
  • 邮箱：jccsoc@sina.com
  • 电话：010-57811253 57811254
  • 国际标准刊号：ISSN：0454-5648
  • 国内统一刊号：ISSN：11-2310/TQ
  • 邮发代号:2-695
  • 获奖情况:
  • EI　Compendex、CA、SA、PI收录期刊,全国核心期刊,中国期刊方阵“双效”期刊
  • 国内外数据库收录:
  • 美国化学文摘（网络版）,荷兰文摘与引文数据库,美国工程索引,美国剑桥科学文摘,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊（2004版）,中国北大核心期刊（2008版）,中国北大核心期刊（2011版）,中国北大核心期刊（2014版）,英国英国皇家化学学会文摘,中国北大核心期刊（2000版）
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