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氮化镓基发光二极管结构中粗化p型氮化镓层的新型生长方法
  • ISSN号:1000-3290
  • 期刊名称:Acta Physica Sinica
  • 时间:2011
  • 页码:707-711
  • 分类:O78[理学—晶体学]
  • 作者机构:[1]厦门市三安光电科技有限公司,厦门361009, [2]清华大学电子工程系,集成光电子学国家重点实验室/清华信息科学与技术国家实验室筹,北京100084
  • 相关基金:国家重点基础研究发展计划(973)(批准号:2011CB301902 2011CB301903); 国家自然科学基金(批准号:60723002 50706022 60977022 51002085); 国家高技术研究发展计划(863)(批准号:2007AA05Z429 2008AA03A194); 北京市自然科学基金(批准号:4091001)资助的课题
  • 相关项目:无浸润层的氮化铟镓量子点生长机理和物性研究
中文摘要:

提出了一种新型p型氮化镓粗化外延生长方法,这种生长方法的本质特征是利用低温生长的p型氮化镓作为粗化层的"晶籽"层,然后在这一层的基础上高温快速生长p型氮化镓,使粗化程度得到放大.经实际制作尺寸为12mil×10mil的蓝光发光二极管器件并进行验证测试,与未进行p型氮化镓粗化的结果相比,通过这种方法粗化的发光二极管光通量可提升45%;结果同时表明,该方法有效解决了低温生长p型氮化镓带来的漏电流大,及预通镁源带来的前置电压高的问题.

英文摘要:

A new growth method of roughed p-GaN has been demonstrated in this paper. First, some crystal seeds of p-GaN are obtained by utilizing low-temperature growth. Then, a p-GaN high-temperature expitaxy layer is grown on it subsequently with a fast growth rate, which will enlarge the roughness degree. Compared with the luminous flux of the conventional light emitting diode with flat p-GaN, the luminous flux is improved by 45%. Meanwhile, it is found that the problems of large reverse current and high forward bias aroused by the low-temperature epitaxy are also solved.

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期刊信息
  • 《物理学报》
  • 北大核心期刊(2011版)
  • 主管单位:中国科学院
  • 主办单位:中国物理学会 中国科学院物理研究所
  • 主编:欧阳钟灿
  • 地址:北京603信箱(中国科学院物理研究所)
  • 邮编:100190
  • 邮箱:apsoffice@iphy.ac.cn
  • 电话:010-82649026
  • 国际标准刊号:ISSN:1000-3290
  • 国内统一刊号:ISSN:11-1958/O4
  • 邮发代号:2-425
  • 获奖情况:
  • 1999年首届国家期刊奖,2000年中科院优秀期刊特等奖,2001年科技期刊最高方阵队双高期刊居中国期刊第12位
  • 国内外数据库收录:
  • 美国化学文摘(网络版),荷兰文摘与引文数据库,美国工程索引,美国科学引文索引(扩展库),英国科学文摘数据库,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊(2004版),中国北大核心期刊(2008版),中国北大核心期刊(2011版),中国北大核心期刊(2014版),中国北大核心期刊(2000版)
  • 被引量:49876