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多晶硅薄膜晶体管Kink效应研究与建模
  • ISSN号:1003-353X
  • 期刊名称:半导体技术
  • 时间:0
  • 页码:231-234
  • 语言:中文
  • 分类:TN386.1[电子电信—物理电子学]
  • 作者机构:[1]华南理工大学电子与信息学院,广东广州510640
  • 相关基金:国家自然科学基金资助项目(60776020)
  • 相关项目:多晶硅薄膜晶体管的建模及特性研究
中文摘要:

以BSIM4模型为基础,从沟道电荷密度、有效源漏电压、载流子速度饱和及阈值电压等几个方面出发,找出BSIM4模型中导致不对称的因素,给出了对称的沟道电荷密度公式、源漏有效电压公式和载流子速度饱和公式;同时通过在源端和漏端分别计算的方法,抵消源/漏电压处理方式不同所带来的不对称性;最后推导出新的对称的沟道电流公式.模型验证表明:改进后的模型不但可以准确地模拟器件的特性,而且拥有更高的对称性.改进模型拓宽了BSIM4模型的运用范围,可以更有效地运用于RF集成电路设计和仿真.

英文摘要:

On the basis of BSIM4(Berkeley short-channel IGFET model 4)model,the asymmetry in the BSIM4 models was analyzed.From some aspects,including the channel charge density,effective source-drain voltage,carrier saturation velocity and threshold voltage,the factors that lead to the asymmetry in the BSIM4 models were identified,and the symmetric channel charge density formula,effective source-drain voltage formula,carrier saturation velocity formula were developed.By calculating in the source side and drain side respectively,the asymmetry due to the unparallel dealing with the source voltage and the drain voltage was eliminated.Finally,symmetrical channel current formula was deduced.It is verified that the improved model not only simulates devices accurately,but also is more symmetric.The improved model expands the application scope of the BSIM4 models which can be applied efficiently in the RF(radio frequency)design and simulation.

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期刊信息
  • 《半导体技术》
  • 中国科技核心期刊
  • 主管单位:中国电子科技集团公司
  • 主办单位:中国电子科技集团公司第十三研究所
  • 主编:赵小玲
  • 地址:石家庄179信箱46分箱
  • 邮编:050051
  • 邮箱:informax@heinfo.net
  • 电话:0311-87091339
  • 国际标准刊号:ISSN:1003-353X
  • 国内统一刊号:ISSN:13-1109/TN
  • 邮发代号:18-65
  • 获奖情况:
  • 中文核心期刊,中国科技论文统计用刊
  • 国内外数据库收录:
  • 俄罗斯文摘杂志,美国化学文摘(网络版),美国剑桥科学文摘,英国科学文摘数据库,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊(2004版),中国北大核心期刊(2008版),中国北大核心期刊(2011版),中国北大核心期刊(2014版),中国北大核心期刊(2000版)
  • 被引量:6070