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Effects of Homo-buffer Layer on Properties of Sputter-deposited ZnO Films
  • ISSN号：1005-0302
  • 期刊名称：《材料科学技术学报：英文版》
  • 时间：0
  • 分类：TN304.23[电子电信—物理电子学] TN304.21[电子电信—物理电子学]
  • 作者机构：[1]School of Materials Science and Engineering, Shanghai University, Shanghai 200072, China
  • 相关基金：Acknowledgements This work was supported by the National Natural Science Foundation of China （No. 60877017）, Program for Changjiang Scholars and Innovative Research Team in University （No. IRT0739）, Shanghai Leading Academic Disciplines （S30107） and Innovation Program of Shanghai Municipal Education Commission （No. 08YZ04）.
作者： Jian Huang Linjun Wang Run Xu Weimin Shi Yiben Xia[1]
关键词： ZnO缓冲层, ZnO薄膜, 溅射沉积, 半导体特性分析系统, 氧化锌晶体, 扫描电子显微镜, 性能, 反应磁控溅射, Freestanding diamond, ZnO film, Buffer layer, Magnetron sputtering
中文摘要：

Corresponding author. Ph.D.; Tel.： ＋86 21 56331715; E-mail address： joylinmei@shu.du.cn （J. Huang）.

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